descripción
objetivo de escandio pulverizador
el objetivo de pulverización es un material que se utiliza para crear películas delgadas en una técnica conocida como deposición de sputter, o deposición de películas delgadas. el objetivo de pulverización está disponible en varias formas, purezas, tamaños y precios. las dimensiones varían al pulverizar la pistola. somos el principal fabricante de china del objetivo de pulverización de escandio personalizado (sc) con un nivel de pureza absoluta por encima del 99.99%.
densidad: ﹥ 99%
tamaño promedio de grano: ﹤ 200 μm
rugosidad de la superficie: <0.8 μm
aplicaciones: filtros de onda de alto rendimiento, pantalla oled, imanes permanentes, refrigeración magnética, reactores nucleares, etc.
presupuesto
artículo | pureza | especificación | nombre | pureza | especificación |
lantano | 99.99% | Φ25-Φ127 | disposio | 99.99% | Φ25-Φ127 |
cerio | 99.99% | ------------ | holmio | 99.99% | ------------ |
praseodimio | 99.99% | ------------ | erbio | 99.99% | Φ25-Φ127 |
neodimio | 99.99% | Φ25-Φ127 | tulio | 99.99% | Φ25-Φ127 |
samario | 99.99% | ------------- | iterbio | 99.99% | ------------- |
europio | 99.99% | ------------- | lutetio | 99.99% | Φ25-Φ127 |
gadolinio | 99.99% | Φ25-Φ127 | escandio | 99.99% | -------------- |
terbio | 99.99% | Φ25-Φ127 | itrio | 99.99% | Φ25-Φ127 |